等离子刻蚀是太阳能电池片的生产工艺流程之一，其他流程有硅片检测、表面制绒及酸洗、扩散制结、去磷硅玻璃、镀减反射膜、丝网印刷、快速烧结等。东莞市普诺克真空科技有限公司旗下的真空系统在等离子刻蚀中的应用是阳能电池片制造企业所采用的，因为普诺克真空系统具有真空度高、性能稳定、寿命长、操作简单维护方便，噪音少等特点。

我们先来了解一下等离子刻蚀是一个什么样的过程。

由于在扩散过程中，即使采用背靠背扩散，硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面，而造成短路。因此，必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀，以去除电池边缘的PN结。通常采用等离子刻蚀技术完成这一工艺。等离子刻蚀是在低压状态下，反应气体CF4的母体分子在射频功率的激发下，产生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成，反应腔体中的气体在电子的撞击下，除了转变成离子外，还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面，在那里与被刻蚀材料表面发生化学反应，并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面，被真空系统抽出腔体。

等离子刻蚀机结构主要包括预真空室、刻蚀腔、供气系统和真空系统四部分。

1.预真空室

预真空室的作用是确保刻蚀腔内维持在设定的真空度，不受外界环境（如：粉尘、水汽）的影响，将危险性气体与洁净厂房隔离开来。它由盖板、机械手、传动机构、隔离门等组成。

2.刻蚀腔体

刻蚀腔体是ICP 刻蚀设备的核心结构，它对刻蚀速率、刻蚀的垂直度以及粗糙度都有直接的影响。刻蚀腔的主要组成有：上电极、ICP 射频单元、RF 射频单元、下电极系统、控温系统等组成。

3.供气系统

供气系统是向刻蚀腔体输送各种刻蚀气体，通过压力控制器（PC）和质量流量控制器（MFC）精准的控制气体的流速和流量。气体供应系统由气源瓶、气体输送管道、控制系统、混合单元等组成。

4.真空系统

真空系统有两套，分别用于预真空室和刻蚀腔体。预真空室由机械泵单独抽真空，只有在预真空室真空度达到设定值时，才能打开隔离门，进行传送片。刻蚀腔体的真空由机械泵和分子泵共同提供，刻蚀腔体反应生成的气体也由真空系统排空。

普诺克真空系统在等离子刻蚀中的应用的作用是可以除去太阳电池周边的在扩散工艺中在硅片的表面和周边都扩散了N型结，如果不去除周边N型结会导致电池片正负极被周边N型结连接起来时电池正负极相通起不到电池的作用。如果硅片未刻蚀或刻蚀不净没及时发现并下传印刷将产生低并组片。我们可以通过红外热成像仪检测并判断低并组是否由刻蚀原因产生的。